Влияние плазмохимических процессов на параметры тлеющих разрядов в аргоне при высоких и низких давлениях
- 1 — старший научный сотрудник Санкт-Петербургский государственный университет
- 2 — аспирант Санкт-Петербургский государственный горный институт имени Г.В. Плеханова
- 3 — профессор Санкт-Петербургский государственный горный институт имени Г.В. Плеханова
Аннотация
Проведен сравнительный анализ плазмохимических процессов в тлеющих разрядах высоких и низких давлений. На основе результатов численного моделирования определены процессы, играющие ведущую роль в формировании параметров тлеющих разрядов. Проверены соответствия между пространственным распределением основных характеристик тлеющих разрядов и распределением параметров ведущих плазмохимических процессов. A comparative analysis of the plasma-chemical process in high- and low-pressure glow discharges is presented. Processes that determine parameters of glow discharges have been determined basing on numerical simulation results. Correlations between spatial distribution of the main glow discharge characteristics and distribution of the main plasma chemical processes are presented.
Отсутствует
Литература
- Райзер Ю.П. Физика газового разряда. М.: Наука, 1992.
- Кудрявцев А.А. Положительный столб тлеющего разряда. СПб: Изд-во СПбГУ, 2006.
- Биберман Л.М. Кинетика неравновесной низкотемпературной плазмы. М.: Наука, 1982.