Проведен сравнительный анализ плазмохимических процессов в тлеющих разрядах высоких и низких давлений. На основе результатов численного моделирования определены процессы, играющие ведущую роль в формировании параметров тлеющих разрядов. Проверены соответствия между пространственным распределением основных характеристик тлеющих разрядов и распределением параметров ведущих плазмохимических процессов. A comparative analysis of the plasma-chemical process in high- and low-pressure glow discharges is presented. Processes that determine parameters of glow discharges have been determined basing on numerical simulation results. Correlations between spatial distribution of the main glow discharge characteristics and distribution of the main plasma chemical processes are presented.
Описана простая модель, позволяющая получить вольт-амперную характеристику для затрудненных тлеющих разрядов, учитывающая нелокальную ионизацию в плазме отрицательного свечения. Получены соотношения подобия, позволяющие прогнозировать основные параметры затрудненных тлеющих разрядов. Кроме вольтамперной характеристики, представлены также основные соотношения для расчета распределения концентрации электронов вдоль разрядного промежутка в плазме отрицательного свечения, распределения потенциала и напряженности электрического поля (включая точку обращения электрического поля).
